- विशिष्ट फ़ीड: मेथनॉल
- क्षमता सीमा: 10 ~ 50000 एनएम 3 / एच
- H2शुद्धता: आमतौर पर 99.999% वॉल्यूम द्वारा।(वैकल्पिक 99.9999% खंड द्वारा।)
- H2आपूर्ति दबाव: आमतौर पर 15 बार (जी)
- ऑपरेशन: स्वचालित, पीएलसी नियंत्रित
- उपयोगिताएँ: 1,000 Nm³/h H के उत्पादन के लिए2मेथनॉल से, निम्नलिखित उपयोगिताएँ आवश्यक हैं:
- 500 किग्रा / घंटा मेथनॉल
- 320 किग्रा / घंटा विखनिजीकृत पानी
- 110 किलोवाट बिजली
- 21T / h ठंडा पानी
आवेदन
शुद्ध एच को रीसायकल करने के लिए2एच से2समृद्ध गैस मिश्रण जैसे शिफ्ट गैस, रिफाइंड गैस, सेमी-वाटर गैस, सिटी गैस, कोक-ओवन गैस, किण्वन गैस, मेथनॉल टेल गैस, फॉर्मलाडेहाइड टेल गैस, तेल रिफाइनरी की एफसीसी सूखी गैस, शिफ्ट टेल गैस और अन्य गैस स्रोत एच के साथ2.
विशेषताएँ
1. TCWY उच्च प्रदर्शन के साथ लागत प्रभावी दबाव स्विंग सोखना संयंत्र के डिजाइन और निर्माण के लिए समर्पित है।ग्राहकों की विशिष्ट आवश्यकताओं और उत्पादन विशेषताओं के अनुसार, प्रभावी गैस की उपज और सूचकांक की विश्वसनीयता सुनिश्चित करने के लिए सबसे उपयुक्त तकनीकी योजना, प्रक्रिया मार्ग, अवशोषक प्रकार और अनुपात प्रदान किए जाते हैं।
2. संचालन योजना में, सोखने के समय को अनुकूलित करने के लिए परिपक्व और उन्नत नियंत्रण सॉफ्टवेयर पैकेज अपनाया जाता है, जो संयंत्र को लंबे समय तक सबसे किफायती मोड में संचालित करने में सक्षम बनाता है और तकनीकी स्तर और ऑपरेटरों के लापरवाह संचालन के प्रभाव से मुक्त होता है। .
3. बिस्तर की परतों के बीच मृत रिक्त स्थान को और कम करने और प्रभावी घटकों की पुनर्प्राप्ति दर को बढ़ाने के लिए adsorbents की घनी भरने वाली तकनीक को अपनाया जाता है।
4. विशेष तकनीकों के साथ हमारे पीएसए प्रोग्राम करने योग्य वाल्व का जीवनकाल 1 मिलियन गुना से अधिक है।
(1) सोखना प्रक्रिया
फीड गैस टावर के नीचे से सोखने वाले टॉवर में प्रवेश करती है (एक या कई हमेशा सोखने की स्थिति में होते हैं)।एक के बाद एक विभिन्न सोखने वाले चुनिंदा सोखने के माध्यम से, अशुद्धियों को सोख लिया जाता है और टॉवर के ऊपर से अन-सोखित एच 2 प्रवाह होता है।
जब सोखना अशुद्धता के बड़े पैमाने पर स्थानांतरण क्षेत्र (सोखना आगे की स्थिति) की स्थिति बिस्तर की परत के निकास आरक्षित खंड तक पहुंचती है, फ़ीड गैस के फ़ीड वाल्व और उत्पाद गैस के आउटलेट वाल्व को बंद करें, सोखना बंद करें।और फिर adsorbent बिस्तर पुनर्जनन प्रक्रिया में बदल जाता है।
(2) समान अवसादन
सोखने की प्रक्रिया के बाद, सोखने की दिशा में सोखना टॉवर पर उच्च दबाव H2 को अन्य निचले दबाव सोखने वाले टॉवर में डाल दिया जाता है, जिसने पुनर्जनन समाप्त कर दिया है।पूरी प्रक्रिया न केवल अवसादन प्रक्रिया है, बल्कि बिस्तर के मृत स्थान के H2 को पुनर्प्राप्त करने की प्रक्रिया भी है।प्रक्रिया में कई बार ऑन-स्ट्रीम समान अवसादन शामिल है, इसलिए H2 रिकवरी पूरी तरह से सुनिश्चित की जा सकती है।
(3) पाथवाइज प्रेशर रिलीज
समान अवसादन प्रक्रिया के बाद, सोखने की दिशा के साथ-साथ सोखने वाले टॉवर के शीर्ष पर उत्पाद H2 जल्दी से पाथवाइज प्रेशर रिलीज गैस बफर टैंक (PP गैस बफर टैंक) में वापस आ जाता है, H2 का यह हिस्सा सोखने वाले के पुनर्जनन गैस स्रोत के रूप में उपयोग किया जाएगा। अवसादन।
(4) रिवर्स डिप्रेसुराइजेशन
पाथवाइज प्रेशर रिलीज प्रक्रिया के बाद, सोखने की आगे की स्थिति बेड लेयर के बाहर पहुंच गई है।इस समय, सोखना टॉवर का दबाव 0.03 बारग तक कम हो जाता है या इसलिए सोखने की प्रतिकूल दिशा में, बड़ी मात्रा में सोखने वाली अशुद्धियों को सोखना शुरू हो जाता है।रिवर्स डिप्रेसुराइजेशन डिसोर्बड गैस टेल गैस बफर टैंक में प्रवेश करती है और शुद्धिकरण पुनर्जनन गैस के साथ मिश्रित होती है।
(5) शुद्ध करना
रिवर्स डिप्रेसुराइजेशन प्रक्रिया के बाद, adsorbent के पूर्ण उत्थान को प्राप्त करने के लिए, adsorption बिस्तर की परत को धोने के लिए सोखना की प्रतिकूल दिशा में पाथवाइज प्रेशर रिलीज गैस बफर टैंक के हाइड्रोजन का उपयोग करें, भिन्नात्मक दबाव को और कम करें, और adsorbent पूरी तरह से हो सकता है पुनर्जीवित, यह प्रक्रिया धीमी और स्थिर होनी चाहिए ताकि पुनर्जनन का अच्छा प्रभाव सुनिश्चित किया जा सके।पुर्जिंग पुनर्जनन गैस भी ब्लोडाउन टेल गैस बफर टैंक में प्रवेश करती है।फिर इसे बैटरी की सीमा से बाहर भेजा जाएगा और ईंधन गैस के रूप में इस्तेमाल किया जाएगा।
(6) समान दमन
पुनर्जनन प्रक्रिया को शुद्ध करने के बाद, दूसरे सोखने वाले टॉवर से उच्च दबाव वाले H2 का उपयोग करके सोखना टॉवर को फिर से भरना, यह प्रक्रिया समान-अवसादन प्रक्रिया से मेल खाती है, यह न केवल दबाव बढ़ाने की प्रक्रिया है, बल्कि H2 को पुनर्प्राप्त करने की प्रक्रिया भी है अन्य सोखना टावर के बिस्तर मृत स्थान में।इस प्रक्रिया में कई बार ऑन-स्ट्रीम समान-रिप्रेशर प्रक्रियाएं शामिल हैं।
(7) उत्पाद गैस अंतिम दमन
कई बार समान दमनकारी प्रक्रियाओं के बाद, सोखना टॉवर को अगले सोखना कदम पर लगातार स्विच करने के लिए और उत्पाद की शुद्धता में उतार-चढ़ाव नहीं होना सुनिश्चित करने के लिए, सोखना टॉवर के दबाव को सोखने के दबाव को बढ़ाने के लिए बूस्ट कंट्रोल वाल्व द्वारा उत्पाद H2 का उपयोग करने की आवश्यकता होती है। धीरे-धीरे और लगातार।
प्रक्रिया के बाद, सोखना टावर एक संपूर्ण "सोखना-पुनर्जनन" चक्र पूरा करते हैं, और अगले सोखना की तैयारी करते हैं।